Ультрапитательная маска Christina Line Repair Ultra Nourish Mask, шаг 4, 250 мл
Christina Line Repair Ultra Nourish Mask — профессиональная питательная маска для интенсивного увлажнения, смягчения и восстановления кожи. Формула с маслами сладкого миндаля и жожоба, маслом ши, скваланом и витамином Е помогает уменьшить сухость, раздражение и ощущение стянутости. Маска поддерживает естественный защитный барьер, улучшает эластичность и возвращает коже гладкость и комфорт. Подходит для всех типов кожи, особенно сухой, обезвоженной, чувствительной и со сниженным тонусом.
Характеристики товара
- Предназначена для четвёртого этапа профессиональной процедуры Christina Line Repair.
- Масло сладкого миндаля питает, смягчает и обеспечивает антиоксидантный уход.
- Масло жожоба и сквалан помогают восстановить водно-липидный баланс кожи.
- Масло ши способствует интенсивному увлажнению и уменьшению сухости.
- Витамин Е защищает кожу от воздействия свободных радикалов и поддерживает её эластичность.
Преимущества
- Интенсивно питает и увлажняет кожу.
- Помогает восстановить повреждённый защитный барьер.
- Уменьшает сухость, шелушение, раздражение и стянутость.
- Придаёт коже мягкость, гладкость и упругость.
- Не требует смывания после завершения процедуры.
Способ применения
Обильно нанесите маску на очищенную кожу лица, шеи и зоны декольте. Оставьте на 10 минут, после чего выполните лёгкий массаж до полного впитывания средства. Не смывайте. Для очень сухой, обветренной или раздражённой кожи маску можно применять несколько вечеров подряд.
Состав
Deionized Water (Aqua), Glycerin, Prunus Amygdalus Dulcis (Sweet Almond) Oil, Glyceryl Stearate, Cetyl Alcohol, Isononyl Isononanoate, Polyglyceryl-6 Palmitate/Succinate, C14-22 Alcohols, Simmondsia Chinensis (Jojoba) Seed Oil, Butyrospermum Parkii Butter, Squalane, Cetearyl Alcohol, Phenoxyethanol, C12-20 Alkyl Glucoside, Tocopheryl Acetate, Caprylyl Glycol, Perfume, Ethylhexylglycerin, Sodium Phytate, Hexyl Cinnamal, Benzyl Salicylate, Linalool, Hydroxycitronellal, Benzyl Alcohol, Limonene.